Indium legering sputtering doel met aangepaste substraten gepolijst en geanodiseerd

Productbeschrijving:

Ons Metal Sputtering Target product heeft een gepolijst en geanodiseerd oppervlak, waardoor u een glad en schoon oppervlak krijgt voor uw metaalafzettingsproces.De aangepaste substraat compatibiliteit eigenschap van dit product is wat het onderscheidt van andere metaal sputtering doelen beschikbaar op de marktMet deze functie kunt u er zeker van zijn dat dit product compatibel is met uw specifieke substraatmateriaal, waardoor een efficiënter en effectiever afzettingsproces wordt gewaarborgd.

Ons product is niet alleen veelzijdig, maar ook duurzaam.het verzekeren dat het zijn doel voor een lange tijd zal dienenDe duurzaamheid is ook bewezen wanneer het wordt gebruikt in een Freefall Metal Detector, waar het de impact van metalen deeltjes kan weerstaan.

Haal vandaag nog ons Metal Sputtering Target product en ervaar het verschil in uw metaalafzettingsproces.aangepaste dichtheid en kristalstructuur, en aangepaste substraat compatibiliteit maken het de perfecte keuze voor uw metalen afzetting behoeften.

Kenmerken:

• Productnaam: metaalsputteringdoel
• Vormproces: warm isostatisch persen ((HIP))
• Doelconfiguratie: enkelvoudig of meervoudig
• Ruwe oppervlakte: Ra < 0,8 Um
• Dikte: 10-600 mm
• Kristalstructuur: aangepast

Technische parameters:

Toepassingen:

Het metaalsputteringdoelproduct is verkrijgbaar in een of meerdere configuraties, afhankelijk van de specifieke vereisten van de toepassing.die zorgt voor een sterke band tussen het doel en de steunplaatDit zorgt ervoor dat het product bestand is tegen het ionenbombardement met hoge energie, dat vaak geassocieerd wordt met sputteringtoepassingen.

Het product is ideaal voor gebruik in een breed scala van situaties, bijvoorbeeld bij de productie van H-balkstaal,voor het coachen van staal met een dunne laag van een ander materiaalDit helpt de duurzaamheid en de prestaties van het staal te verbeteren, waardoor het ideaal is voor gebruik in een breed scala van toepassingen.

Het product kan ook worden gebruikt bij de productie van transport- en metaaldetectormachines.het product Metal Sputtering Target wordt gebruikt om een dunne film te maken die op het oppervlak van het transportband wordt geplaatstDe dunne film helpt de gevoeligheid van de metaaldetector te verbeteren, waardoor deze effectiever metaal voorwerpen kan detecteren die aanwezig kunnen zijn op de transportband.

Het product met metaalsputteringdoel is ontworpen met een oppervlakte ruwheid van Ra < 0,8 Um. Dit zorgt ervoor dat het product zeer uniform en consistent is,die essentieel is voor het bereiken van kwalitatief hoogwaardige spuitresultatenHet product is ook ontworpen om zeer duurzaam te zijn, zodat het bestand is tegen het ionenbombardement van hoge energie dat vaak wordt geassocieerd met sputteringtoepassingen.

Aanpassing:

Pas uw Metal Sputtering Target product aan met onze Product Customization Services.

Kristallenstructuur:Op maat

Oppervlak:gepolijst,Anodisatie

Zuiverheid:99.99%

Beschermingsmethode:Sputtering

Techniek:Gesmeed en CNC-bewerk

Met ons elektrostatisch poedercoating pistool, heeft uw doelwit een hoogwaardige coating die zowel consistent als duurzaam is.u kunt er zeker van zijn dat uw product vrij is van onzuiverhedenLaat ons je helpen met het maken van een aangepast metaalspuitdoel dat voldoet aan je exacte specificaties.

Ondersteuning en diensten:

Onze metaalsputteringdoelen worden vervaardigd volgens de hoogste kwaliteitsnormen en zijn verkrijgbaar in verschillende materialen en maten.Onze technische ondersteuning is beschikbaar om u te helpen met vragen of problemen met betrekking tot het gebruik van onze productenWe bieden ook een scala aan diensten, waaronder doelbinding, doel recycling en custom doel productie.Ons doel is om onze klanten te voorzien van de best mogelijke ervaring bij het gebruik van onze Metal Sputtering Doelen.