Titanium SS 304 PVD coating Sputtering targets 100*40mm 95*45mm 98*10mm voor industrieel gebruik

Beschrijving

Sputterdoelen zijn materialen waaruit dunne films worden gekweekt met behulp van de sputtermethode. Deze doelen worden vervaardigd door metalen of keramiek te verwerken.
Wij leveren sputterdoelproducten in een breed scala aan materialen, zuiverheden en vormen door geavanceerde technologieën te combineren in smelten, sinteren, synthese en precisie mechanische bewerking.

Fabricagemethoden en maatwerk kunnen worden geselecteerd op basis van uw toepassing en vereisten. Elk doel wordt geproduceerd met behulp van het meest geschikte proces om optimale prestaties en kwaliteit te garanderen.

Specificatie

Toepassing

Titanium Doelen

Titanium sputterdoelen worden veel gebruikt voor hardware-toolcoatings, decoratieve coatings, halfgeleidercomponenten en coatings voor vlakke beeldschermen.
Het zijn kernmaterialen bij de productie van geïntegreerde schakelingen, die doorgaans zuiverheden vereisen van meer dan99,99%.

Aluminium Doelen

Aluminium sputtering wordt vaak gebruikt in halfgeleidertoepassingen en voor dunne-filmcoatings vanwege zijn veelzijdigheid en uitstekende hittebestendigheid. Het wordt veel gebruikt in de elektronica-, lucht- en ruimtevaart- en consumentengoederenindustrie.

Koperen Doelen

Koperdoelen zijn ideaal voor toepassingen die een hoge elektrische geleidbaarheid vereisen, zoals elektroden, bedrading en voorruitfilms.

Tin Doelen

Tin sputtering verbetert de corrosiebestendigheid en wordt gebruikt om de oppervlakte-eigenschappen van andere materialen te verbeteren.

Zink Doelen

Zinkdoelen worden toegepast vanwege hun corrosiebescherming, vaak gebruikt in de kathodeproductie, batterijen, drijfgassen en verven.

Edelmetaal Doelen (Platina, Zilver, Goud)

Deze doelen bieden uitstekende chemische inertheid en elektrische geleidbaarheid, waardoor ze uitstekend geschikt zijn voor instrumentatie, sensoren en elektroden.